【文/有數DataVision】

作為日本老牌電子巨頭，佳能相機做得好，但光刻機做得也不差。

就在今年年初，佳能關閉了運營32年的珠海工廠。盡管，巔峰時期，這里曾一度占了佳能全球卡片數碼相機的一半產量。

到了下半年，不斷收縮中的佳能，卻大手一揮表示要投資500億日元（約25億人民幣），新建半導體設備工廠。以2021年數據來看，佳能光刻機均價約為：

7857萬。

更具體來說，去年總計銷售140臺光刻機的佳能，想要將其產能提高兩倍，同時，佳能還要研制一種名叫NIL的低成本高端設備，試圖在全球高端光刻機領域分一杯羹。

畢竟一臺最最基礎的EUV光刻機就要超過1億元，還是美刀。

故事似乎有些反常？

目前，全球半導體產業都處于周期底部，就連長期供不應求的臺積電，也準備于今年關閉4臺EUV光刻機，鼓勵員工多休息。對于擴產、購買光刻機的意愿更是一降再降。

那么問題來了，晶圓廠們都不愿擴產了，佳能為何在此時增加光刻機產能？

01.佳能擴產，意在中國

項莊舞劍，意在沛公；佳能擴產，意在中國。

這么說，原因主要有二：

第一，雖然全球產能過剩，但中國芯片仍在擴張，需要光刻機。

首先來看看中國芯片企業的數量。

企查查搜索芯片，一年內成立的企業有63017家；成立1-2年的企業有45511家；成立2-3年的有20678家。盡管中國芯片產業沒有按照摩爾定律發展，但是企業數量卻按照摩爾定律在穩步推進。企業多了，實力不一定成正比增加，但對光刻機的需求，一定會暴漲。

其次看看企業愿意付出的代價。

在2021年史無前例大缺芯中，一臺三十年前佳能的二手光刻機身價暴漲17倍，2014年售價不到10萬美元，卻足足被炒作賣到了170萬美元。盡管這臺光刻機僅適用于4至8英寸的晶圓，只能用于350nm的技術。

第二，中國光刻機產業的自主化還有一段距離。

目前，要生產7nm以下先進芯片制程，極紫外線光刻機（EUV）是必選項。但全球范圍內，僅阿斯麥一家具備EUV光刻機的生產能力。

那我們距離EUV的距離有多遠呢？

目前國內最先進的光刻機來自上海微電子，其最先進的光刻機是一款代號SSA600/20的DUV設備，只能用于90nm芯片的生產。而90nm，是臺積電2000年前后就已經量產的芯片制程。

因此，擴產中的中國芯片事業，迫切需要補上光刻機的短板。

02.為什么是佳能？

全球范圍內，能做光刻機的企業不少，為什么是佳能？

最直接的原因是，佳能更容易繞過長臂管轄。

當前，全球的光刻機主要可以分為兩類，EUV與DUV。簡單來說，EUV主要用于7nm及更先進的制程，在這個市場中，來自荷蘭的阿斯麥一家獨大。而在14nm以及更成熟的制程中，則主要使用的是DUV設備，這一市場則由阿斯麥以及來自日本的佳能、尼康三分天下。

由于歷史的原因，在光刻機的生產中，阿斯麥采用全球分工，尤其是光刻機的核心零部件光源主要來自美國，因此會受到更多的美國長臂管轄，而日本企業更多采用垂直一體化的生產模式，相對來說受限較小。

一邊是山高皇帝遠的美國管轄，一邊是不斷增長的中國市場，孰輕孰重，佳能自然早有結論。

政治原因之外，于佳能而言，借助中國市場，實現光刻機產業的“彎道超車”，則是另一重它的隱秘“芯事”。

根據爆料，佳能計劃開發的該新一代設備很可能就是2021年成功研發的納米壓印光刻（NIL）的升級版。

所謂NIL技術，是將三維結構的掩膜壓在晶圓的感光材料上，同時照射光線完成一次性轉印，被稱為是最有前景的光刻技術之一。

相比EUV，NIL主要有兩大優勢。

第一，NIL更省錢。眾所周知，EUV設備就是一臺吞金獸，光購買價款就超過了一臺波音客機，還有一年超一千萬度的耗電量。而NIL不僅設備投資僅有EUV的40%，耗電量更是僅有10%。

第二，技術更加獨立自主。傳統光刻機市場中，DUV自主并不罕見，但到了EUV階段，則需要來自美國的光源、德國的鏡片、英國的真空腔，舉全球之力完成。但是對NIL技術來說，主要技術以及零件來源是日本的佳能、鎧俠以及大日本印刷株式會社（DNP），并早在2017年就開始在日本三重縣四日市的鎧俠工廠內研發NIL量產。因此技術上并不受美國的長臂管轄。

當然，這些目前也僅僅只是佳能的官方宣傳，而且主要被用在存儲芯片的生產。